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Think Beyond Vacuum
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μLED成膜/加工技术
介绍μLED工艺所必需的溅射、刻蚀技术。
透明电极膜ITO成膜
当通过溅射形成ITO膜时，在TG表面附近的电场中加速的负离子以高速入射到基板，对基板上的ITO膜造成损伤。LVS是一种降低溅射电压（负离子加速电场）并以低损伤方式形成 ITO 膜的方法。
PSS加工
刻蚀基板表面，形成圆锥形，提高光的反射效率。
刻蚀（ITO加工）
刻蚀（GaN Mesa加工）
刻蚀（GaN Isolation加工）
