ULVAC

Think Beyond Vacuum

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光波导加工技术

介绍光波导工艺中必要的干法刻蚀技术。

光波导Hard Mask刻蚀

Hard Mask(Ni、Cr)可采用 ULVAC 专有的低压、低电子温度和磁中性环路放电等离子体(NLD)进行加工。

 

NLD刻蚀的形状更加平滑

LN, LT光波导刻蚀

 

对于光波导,考虑到折射率和损耗,当垂直性和侧壁平滑度或core的宽度发生变化时,光束的传播损耗会增加。core的侧壁必须平滑,并且core的宽度必须保持均匀。石英等通过CF系的离子冲击进行刻蚀,因此低压、高密度等离子体是理想的选择。磁中性环路放电等离子体(NLD)适用于低压、低电子温度和高密度等离子体的波导加工。