ULVAC

Think Beyond Vacuum

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Think Beyond Vacuum

面向SAW器件的成膜/加工技术

IDT电极成膜(蒸镀)

高精密分布特化SAW专用机

IDT电极刻蚀

 

干性刻蚀方法的挑战是after corrosion的发生。铝基材料未经干法刻蚀后的后处理,由于大气中的水分与余氯成分的反应而产生腐蚀,因此在进入大气之前必须去除余氯。此外,由于可能会有Fence和残渣,最好能够一起把它们除去。特别是在AlCu合金中,Cu含量多时,腐蚀的发生尤为明显。

TC膜Half Etching + Trimming

在SiO2成膜后,进行Half etching+Ion milling。SiO2和 LN/LT基板会在热应力下变形。LN/LT基板由于压电变形而传送电波,如果这里发生热变形的话,在温度差很大的地方就不能作为滤波器发挥作用了。通过加入SiO2,施加相反的热应力,以抵消 LN/LT的应力。由于SiO2分布非常重要,需要良好的分布。