ULVAC

Think Beyond Vacuum

ULVAC

Think Beyond Vacuum

μLED制造工艺

μLED是将用于照明等光源的LED微细化后应用于显示器的技术,作为继LCD和OLED之后的下一代显示技术而备受期待。ULVAC为μLED的制造工艺提供ITO溅射、刻蚀等技术。

 

μLED的制造工艺流程

 

 

1. PSS&Buffer层形成

将基板表面进行刻蚀加工,形成圆锥形,提高反射率。另外,通过形成AlN的Buffer层,可以实现晶体生长的均匀化和光滑的表面。

μLED成膜/加工技术介绍

 

 

2. EPI&透明导电膜形成

通过MOCVD形成EPI层,通过溅射形成透明导电膜(ITO)。

μLED成膜/加工技术介绍

 

 

3. 透明导电膜Patterning

在加工ITO膜时Particle的控制变得重要。

μLED成膜/加工技术介绍

 

 

4. Mesa + Isolation加工

μLED成膜/加工技术介绍